“A new electron scattering model for x-ray lithography applications”

Capitolo di libro
Data di Pubblicazione:
1993
Citazione:
“A new electron scattering model for x-ray lithography applications” / Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo. - (1993), pp. 1-29.
Tipologia CRIS:
2.1 Contributo in volume (Capitolo o Saggio)
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.unirc.it/handle/20.500.12318/11698
Titolo del libro:
Process and device modeling for microelectronics