Evidence for the existence of scaling laws correlating the deposition parameters and the Raman spectra features in thin a-C:N:H films deposited by reactive r.f. sputtering
Articolo
Data di Pubblicazione:
2002
Citazione:
Evidence for the existence of scaling laws correlating the deposition parameters and the Raman spectra features in thin a-C:N:H films deposited by reactive r.f. sputtering / Messina, G., Santangelo, S., Fanchini, G., Tagliaferro, A.. - In: VACUUM. - ISSN 0042-207X. - 67:(2002), pp. 537-542. [10.1016/S0042-207X(02)00245-2]
Tipologia CRIS:
1.1 Articolo in rivista
Elenco autori:
Messina, G.; Santangelo, Saveria; Fanchini, G.; Tagliaferro, A.
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